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氧化硅拋光液是什么？

由納米二氧化硅顆粒、溶劑、化學助劑等成分組成；

用于材料表面平坦化處理，是 CMP 工藝的核心材料之一；

通過化學腐蝕作用和機械磨削作用配合去除材料表面缺陷、降低表面粗糙度；

其性能直接影響被加工材料表面質量和加工效率。

改性硅溶膠

THZ-中性硅溶膠系列

SKP-30快干型硅溶膠系列

氨型硅溶膠系列

超高純度硅溶膠系列

THSW-酸性硅溶膠系列

快干型硅溶膠SKP27-3

skp-27快干型硅溶膠系列

堿性硅溶膠S-1430系列

堿性硅溶膠S-830系列

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