納米二氧化硅拋光液是以硅溶膠為主要原料，經過特殊工藝生產的一種拋光產品，廣泛用于多種材料表面的平坦化拋光，如電子產品的金屬外殼、手機攝像頭玻璃、Home鍵、計算機硬盤盤片、硅晶片等表面的拋光加工。

納米二氧化硅拋光液的拋光過程是在拋光機上實現的，在拋光過程中拋光墊和工件相對做旋轉運動，拋光液(磨料)在旋轉的拋光墊與工件之間流動，在一定壓力、溫度和轉速作用下，發生化學機械拋光過程-簡稱CMP(ChemicalMechanicalPolishing)，因此拋光過程是在化學的和機械的綜合作用下，使工件表面平整化(拋光)。

在拋光過程中，拋光液的主要作用是:

①拋光作用，通過研磨、腐蝕、吸附反應物來實現;
②潤滑作用;
③冷卻降溫作用;
④沖洗排渣作用。
硅溶膠是納米拋光液的重要組成部分，其粒徑、粒子形態、粒徑分布、濃度、pH和雜質含量會直接影響拋光材料表面去除率和表面粗糙度或波紋度之間的平衡，進而影響材料表面的拋光質量。我公司與相關行業合作密切，致力于不斷推出和優化拋光液系列產品，為客戶提供的服務和解決方案。如下圖所示。我公司可以生產多種特性的硅溶膠拋光液。